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Titelaufnahme

Titel
Entwicklung von Konzepten für die maskenfreie Belichtung in der Lithografie im m-Bereich / eingereicht von Martin Eibensteiner
VerfasserEibensteiner, Martin
Betreuer / BetreuerinZeman, Klaus ; Hehenberger, Peter ; Kirchschlager, Raimund
ErschienenLinz, Dezember 2015
Umfangx, 213 Blätter : Illustrationen
HochschulschriftUniversität Linz, Univ., Masterarbeit, 2015
Anmerkung
Kurzfassungen in deutscher und englischer Sprache
SpracheDeutsch
DokumenttypMasterarbeit
Schlagwörter (GND)Lithografie <Halbleitertechnologie> / Belichtung / Oberflächenstruktur / Maske <Fotografie> / Mikrometerbereich
URNurn:nbn:at:at-ubl:1-6651 Persistent Identifier (URN)
Zugriffsbeschränkung
 Das Werk ist gemäß den "Hinweisen für BenützerInnen" verfügbar
Dateien
Entwicklung von Konzepten für die maskenfreie Belichtung in der Lithografie im m-Bereich [11.64 mb]
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